Scribd Logo
Unggah

Selamat datang di Scribd!

  • Fotolitografi

    Diunggah oleh

    nuri yani
    69 tayangan4 halaman
    Litografi adalah proses pemindahan pola geometris dari masker ke lapisan fotoresist yang peka radiasi pada wafer semikonduktor dengan metode penyinaran cahaya. Proses ini digunakan untuk memetakan bagian-bagian pada lapisan tipis material dalam pembuatan mikroelektronika.

    Deskripsi Asli:

    tentang fotolitografi

    Hak Cipta

    © © All Rights Reserved

    Format Tersedia

    DOCX, PDF, TXT atau baca online dari Scribd

    Apakah menurut Anda dokumen ini bermanfaat?

    Apakah konten ini tidak pantas?

    Laporkan Dokumen Ini
    Litografi adalah proses pemindahan pola geometris dari masker ke lapisan fotoresist yang peka radiasi pada wafer semikonduktor dengan metode penyinaran cahaya. Proses ini digunakan untuk memetakan bagian-bagian pada lapisan tipis material dalam pembuatan mikroelektronika.

    Hak Cipta:

    © All Rights Reserved
    Unduh sebagai DOCX, PDF, TXT atau baca online dari Scribd
    Tandai sebagai konten tidak pantas
    69 tayangan4 halaman

    Fotolitografi

    Diunggah oleh

    nuri yani
    Litografi adalah proses pemindahan pola geometris dari masker ke lapisan fotoresist yang peka radiasi pada wafer semikonduktor dengan metode penyinaran cahaya. Proses ini digunakan untuk memetakan bagian-bagian pada lapisan tipis material dalam pembuatan mikroelektronika.

    Hak Cipta:

    © All Rights Reserved
    Unduh sebagai DOCX, PDF, TXT atau baca online dari Scribd
    Tandai sebagai konten tidak pantas
    dari 4

    Fotolitografi , juga disebut litografi optik atau litografi UV , adalah proses yang digunakan dalam

    pembuatan mikro untuk memetakan bagian-bagian pada film tipis atau sebagian besar substrat (juga


    disebut wafer ). Menggunakan cahaya untuk mentransfer pola geometris dari photomask (juga
    disebut topeng optik ) ke fotoresis kimia peka cahaya (yaitu, peka cahaya) pada
    substrat. Serangkaian perawatan kimia kemudian mengetsa pola paparan ke dalam material atau
    memungkinkan pengendapan material baru dalam pola yang diinginkan pada material di bawah
    photoresist. Dalam sirkuit terpadu yang kompleks, wafer CMOS dapat melalui siklus photolithographic
    sebanyak 50 kali.
    Photolithography adalah proses
    pemindahan pola geometris pada masker ke
    lapisan tipis dari material yang peka
    terhadap
    radiasi (resis) yang menutupi
    permukaan wafer semikonduktor dengan
    metode penyinaran cahaya. Pola resis yang
    dibentuk oleh proses photolithograph
    . Pola resis yang
    dibentuk oleh proses photolithography
    bukanlah elemen yang tetap dari devais
    akhir, tetapi hanya tiruan dari feature
    rangkaian

    Etsa merupakan teknik cetak seni yang menggunakan media berupa lempeng tembaga. Untuk
    membuat acuan cetak atau klise dilakukan dengan menggunakan larutan asam nitrat (HNO3)
    yang memiliki sifat korosit terhadap logam tembaga. Teknik ini ditemukan oleh Daniel Hopfer
    (sekitar tahun 1470-1536) dari Augsburg, Jerman. Dengan teknik ini ia mendekorasi baju
    besinya.

    Etsa relatif mudah dipelajari oleh seniman yang terbiasa menggambar. Hasil cetakan etsa
    umumnya bersifat linear dan memiliki detail dan kontur halus. Pengerjaan teknik etsa adalah
    dengan menutup lembaran plat logam menggunakan lapisan semacam lilin. Kemudian, lapisan
    tersebut digores menggunakan jarum etsa yang runcing hingga bagian logamnya terbuka. Plat
    tersebut kemudian dicelupkan atau diberi larutan asam di atasnya. Asam akan mengikis bagian
    plat yang digores. Setelah itu lapisan yang tersisa dibersihkan dari plat, dan selanjutnya proses
    pencetakan yang sama dengan proses pencetakan pada engraving.

    Etsa adalah proses dengan menggunakan asamkuat untuk mengikis bagian permukaanlogamyang tak
    terlindungi untuk menciptakan desain pada logam

    Litografi adalah proses yang di gunakan dalam pembuatan mikro untuk memetakan bagian-


    bagian pada lapisan tipis dari material yang peka terhadap radiasi (resis) yang
    menutupi permukaan wafer semikonduktor dengan metode penyinaran cahaya untuk
    mentransfer pola geometris dari topeng optik (Photomask) ke fotoresis kimia peka cahaya pada
    substrat (wafer).
    Pada tipe
    -
    nega bahan
    -
    bahan resis yang
    digunakan yaitu karet alam atau sintetis jenis
    polivin
    il cinnamat, dan pada tipe posi
    menggunakan bahan novlac quinnon
    diazonium. Resis
    -
    resis yang dipasarkan
    antara lain : KPR Kodak (untuk SiO
    2
    dan
    Al), KTFR (untuk SiO
    2
    dan lapisan logam),
    KMER (untuk logam dan gelas) dan KOR
    (untuk logam), semuanya adalah ti
    pe
    -
    nega,
    dan tipe
    -
    posi yaitu keluaran Shipley AZ
    -
    1350 dan AZ
    -
    111. Pada waktu menyimpan
    resis, harus sangat hati
    -
    hati terutama
    terhadap debu dan kotoran, sedangkan
    kelembaban dan temperatur juga harus
    dijaga baik. Sekarang telah terdapat resis
    yang mempunya
    i daya ketajaman yang
    tinggi yang perlu dipakai pada pola yang
    sangat halu

    Dalam produksi semikonduktor, doping menunjuk ke proses yang bertujuan menambah


    ketidakmurnian (impuritya) kepada semikonduktor sangat murni (juga disebut intrinsik) dalam rangka
    mengubah sifat listriknya. Ketidakmurnian ini tergantung dari jenis semikonduktor.

    proses untuk menambahkan ketidakmurnian (Impurity) pada Semikonduktor yang


    murni (semikonduktor Intrinsik) sehingga dapat merubah sifat atau karakteristik
    kelistrikannya. Beberapa bahan yang digunakan untuk menambahkan
    ketidakmurnian semikonduktor antara lain adalah Arsenic,

    pert 12

    Assalamualaikum

    Pertanyaan

    1. Jelaskan apa yang dimaksud dengan Doping


    Saya akan mencoba menjawab,mohon di koreksi Ibu Kartika 

    Doping adalah proses untuk menambahkan ketidakmurnian (Impurity) pada Semikonduktor yang
    murni (semikonduktor Intrinsik) sehingga dapat merubah sifat atau karakteristik kelistrikannya.

    Contoh bahan yang digunakan untuk menambahkan ketidakmurnian semikonduktor diantaranya


    Arsenic.

    1. N-type Semikonduktor

    Dikatakan N-type karena Semikonduktor jenis ini pembawa muatannya (Charge


    Carrier) adalah terdiri dari Elektron. Elektron adalah bermuatan Negatif sehingga
    disebut dengan Tipe Negatif atau N-type.
    Pada Semikonduktor yang berbahan Silicon (Si), Proses Doping dengan
    menambahkan Arsenic atau Antimony akan menjadikan Semikonduktor tersebut
    sebagai N-type Semikonduktor.
    Terdapat 2 (dua) pembawa muatan atau charge Carrier dalam N-type
    Semikonduktor yakni Elektron sebagai Majority Carrier dan Hole sebagai Minority
    Carrier.

    2. P-Type Semikonduktor

    Dikatakan P-type karena Semikonduktor jenis ini kekurangan Elektron atau


    disebut dengan “Hole”. Ketika pembawa muatannya adalah Hole maka
    Semikonduktor tersebut merupakan Semikonduktor bermuatan Positif.
    Pada Semikonduktor yang berbahan Silicon (Si), Proses Doping dengan
    menambahkan Indium akan menjadikan Semikondukter tersebut sebagai P-type
    Semikonduktor.
    2 (dua) pembawa muatan yang terdapat dalam P-type Semikonduktor adalah
    Hole sebagai Majority Carrier dan Elektron sebagai Minority Carrier).

    cara menambahkan (doping) unsur lain yang berbeda jumlah elektron valensinya.Proses penambahan
    unsur lain ini mengakibatkan silikon menjadi tidak murni (ekstrinsik).

    Semikonduktor tipe p

    terjadi jika bahan silikon di-doping dengan bahan yang lain yang mempunyai elektron bervalensi
    tiga,maka akan diperoleh semikonduktor tipe p karena terjadi kekurangan elektron.Kekurangan elektron
    ini mengakibatkan kovalen yang bolong (hole).Hole merupakan digambarkan sebagai akseptor  yang
    dapat menerima elektron.

    Pertanyaan

    2. Jelaskan Proses pembentukan semikonduktor tipe P dan pemebentukan semi konduktor


    tipe N
    Jawab

    - Proses pembentukan Semikonduktortipe P berbahan Silicon (Si)

    terjadi jika bahan silikon di-doping dengan bahan yang lain yang mempunyai elektron bervalensi
    tiga,maka akan diperoleh semikonduktor tipe p karena terjadi kekurangan elektron.Kekurangan
    elektron ini mengakibatkan kovalen bolong (hole).Hole merupakan digambarkan sebagai
    akseptor  yang dapat menerima elektron.

    2 (dua) pembawa muatan yang terdapat dalam Semikonduktor tipe P adalah Hole sebagai
    Majority Carrier dan Elektron sebagai Minority Carrier).

    - Proses pembentukan semikonduktor tipe N yang berbahan Silicon (Si), Proses Doping

    dengan cara menambahkan (doping) unsur lain yang berbeda jumlah elektron valensinya.Proses
    penambahan unsur lain ini mengakibatkan silikon menjadi tidak murni (ekstrinsik).Dua
    pembawa muatan atau charge Carrier dalam Semikonduktor tipe N yakni Elektron sebagai
    Majority Carrier dan Hole sebagai Minority Carrier

    Anda mungkin juga menyukai